IMAGING i2000
IMAGING i2000系统，同样具备高分辨率和计量功能，但是设计更加紧凑，占地面积更小，适合于芯片半导体，小型PCB，以及新材料等工业以及科研的无损检测。
可对复杂微观结构和隐藏缺陷进行超清晰成像。
可对复杂微观结构和隐藏缺陷进行超清晰成像。
纳米焦点射线管电压与微焦点，射线管电压最高可达 450 千伏，同时具备出色的材料穿透能力和微观分辨率。
支持一键生成报告，原位分析以及更多扩展功能。
通过高精密花岗岩基台以及运动模组，实现对工件的高精度测量。
搭载极速预览预调模块，简化采集流程大幅压缩成像调试周期，提升整机检测作业效率。
IMAGING i2000系统，同样具备高分辨率和计量功能，但是设计更加紧凑，占地面积更小，适合于芯片半导体，小型PCB，以及新材料等工业以及科研的无损检测。
IMAGING i2000pro为复杂及多应用场景设计，高性能 3K 探测器以及多款管电压可选，配合高精度计量功能，大行程测量范围，可以胜任多密度材料工件，中大型工件，同时也可以兼顾亚纳米级材料研究和芯片微观结构分析。
| IMAGING i2000 | IMAGING i2000pro | |
| 安全合规 | 自屏蔽设计，表面剂量率<0.2 μSv/h | 自屏蔽设计，表面剂量率 ≤0.2 μSv/h |
| 最大电子管电压 | 100~225 kV | 225~450 kV |
| 焦点大小 | <2 μm | ≤7 μm |
| 最大视野 | 200 × 400 mm | 500 × 1000 mm |
| 最大样本量 | <200 mm | ≤500 mm |
| 空间分辨率 | 0.15/0.5/1 μm | ≤4 μm |
| 最大重建矩阵 | 5000 × 5000 | 8000 × 8000 |
锐视科技致力于提供先进的成像与辐照解决方案，为科研和工业用户不断变化的应用需求提供精准支持。
